針對失效分析和大樣本研究的原子力顯微鏡
作為一款缺陷形貌分析的精密測量儀器，其主要目的是對樣品進行缺陷檢測。而儀器所提供的數據不能允許任何錯誤的存在。Park NX20這款全球精密的大型樣品原子力顯微鏡，憑借著出色的數據準確性，在半導體和超平樣品行業中大受贊揚。
Park NX20具備有一無二的功能，可快速幫助客戶找到產品失效的原因，并幫助客戶制定出更多具有創意的解決方案。
****的精密度為您帶來高分辨率數據，讓您能夠更加專注于工作。與此同時，真正非接觸掃描模式讓探針**更鋒利、更耐用，無需為頻繁更換探針而耗費大量的時間和**。
樣品側壁三維結構測量
對樣品和基片進行表面光潔度測量
高分辨率電子掃描模式
掃描式電容顯微鏡
多種獨有的磚利技術幫助顧客減少測試時間
CrN樣品所做的針尖磨損實驗 通過對比重復掃描情況下探針**的形狀變化，您可以輕易看到Park的真正非接觸模式的優勢所在。 AFM測量 借助真正非接觸模式，探針**在掃描氮化鉻樣品（即探針檢測樣品）200次后仍可保持鋒利的狀態。 氮化鉻的表面粗糙且研磨性強，會讓普通的探針很快變鈍。
CrN樣品所做的針尖磨損實驗
AFM測量
借助真正非接觸模式，探針**在掃描氮化鉻樣品（即探針檢測樣品）200次后仍可保持鋒利的狀態。
氮化鉻的表面粗糙且研磨性強，會讓普通的探針很快變鈍。
Park NX系列原子力顯微鏡
傳統的原子力顯微鏡
Park NX20 規格
XY行程范圍 : 150 mm (200 mm選配) Z行程范圍 : 25 mm 對焦行程范圍: 8 mm
光學物鏡 10× (0.21 NA) 超長工作距離鏡頭的物鏡 20× (0.42 NA)高分辨率，長工作距離鏡頭的物鏡 同軸光源設計 10倍光學物鏡和數碼放大 光學物鏡視場 : 840 × 630 μm (420 × 315 μm選配) CCD : 5M pixel